SiO₂ Growth by Dry Method

SiO₂ Growth by Dry Method

El crecimiento de óxido por tratamiento térmico seco es muy similar al método húmedo, utilizamos un horno con un tubo de cuarzo y en lugar de utilizar vapor, se utilizan moléculas de oxígeno, que con determinada presión y flujo de este gas, se obtiene una película de óxido de silicio.